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SEM画像集
cryo dry 25°による断面SEM観察
ウルトラミクロトームとダイヤモンドナイフを用いて断面出しすることで、簡単・迅速に断面SEM観察することが可能です。
■プリント基板のはんだ接合界面観察条件：加速電圧1.4kV、filtering grid bias voltage 1.1kV |
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プリント基板と断面出しのため切断した試料の外観 |
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低加速・高分解能BSE像1 比較的密着性が良好な箇所 |
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低加速・高分解能BSE像2 はんだ接合界面が剥離した領域(左側)と、うまく密着している領域(右側) |
■PA/ABSの無染色SEM像観察条件：加速電圧0.4kV、filtering grid bias voltage 0.35kV |
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PA/ABS断面の低加速SEM像 |
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低加速・高分解能 in-lens SE像 無染色でもサラミ構造が観察できる。 |
■亜鉛めっき鋼板観察条件：加速電圧1.3kV、filtering grid bias voltage 1.1kV |
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■リードフレーム |
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■ボールグリッドアレー |
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■インクジェット紙 |
■塗装鋼板 |
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ご提供：慶應義塾大学 清水健一様 |
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