ダイヤモンドナイフ・カーボン両面テープ他、電子顕微鏡試料作製用材料器具販売

CLEM/vEM特化樹脂 R221®
CLEM/vEM特化樹脂 R221®
CLEM/vEM特化樹脂 R221®
CLEM/vEM特化樹脂 R221®
CLEM/vEM特化樹脂 R221®
CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®
  • 画像をギャラリービューアに読み込む, CLEM/vEM特化樹脂 R221®

CLEM/vEM特化樹脂 R221®

通常価格
¥0
(税込)
販売価格
¥0
通常価格
(税込)
売り切れ
単価
あたり 
(税込)

商品説明

四酸化オスミウム無し極低濃度グルタルアルデヒド、酢酸ウラニルで高コントラスト電顕画像を得られる樹脂です。

樹脂内で蛍光を保持します。

・商品画像(左上から)

1.商品イメージ

2~4 R221®樹脂に包埋された各種サンプルのボリューム電顕画像

Various samples were High Pressure Frozen using the HPM Live μ® , freeze substituted using 0.05% of Urany Acetate , 0.1% of Glutaradehyde and 5% H2O in dry acetone , then embedded in R221 prior to various image volume imaging methods :
- vEM on the cell monolayer using either a SigmaVP SEM or a Zeiss Crossbeam 540 SEM

2. 3View2XP (Gatan) top view, Sigma VP SEM (Zeiss)

Voltage: 2kV; High Current: Off; Aperture: 30micron; Pressure: 8 Pa (N2gas); Magnification: 7500; Contrast: 8; Brightness: 5; Frame size: 8192 x 8192; Pixel size: 4.3nm; Dwell time: 3 μs; Slice thickness: 100 nm

3. Zeiss Crossbeam 540 SEM top view, Atlas 5 for 3D tomography acquisition (Zeiss)

4. Crossbeam Lateral view

Accelerating voltage: 1.5 keV; Current: 1 nA; EsB detector (1200 V grid); Frame size: 4139x1549 (rotated); Pixel size: 5 nm; Slice thickness: 5 nm; Dwelltime: 10 μs

5~6 R221®樹脂に包埋されたサンプルを用いたCLEM

Various samples were High Pressure Frozen using the HPM Live μ®, freeze substituted using 0.05% of Urany Acetate , 0.1% of Glutaradehyde and 5% H2O in dry acetone , then embedded in R221 prior to various image volume imaging methods :
-TEM @ 80kV of a 90nm ultrathin section , without post-staining
-Confocal microscopy , 3View with a Sigma VP, Crossbeam 540, and data merging usng eC-CLEM.

Technai 12, 80kV, 90nm thin section. No post-staining.

 

CryoCapCell社ウェブサイト

※価格・納期はお問い合わせください。