PELCO® Silicon Nitride Support Film

・最新の半導体およびＭＥＭＳ技術によって、ナノテクノロジー・分子生物学研究用に開発された支持膜です。

・クリーンルーム内で、良い材料と確かな技術で製造されておりますので、非常に高品質です。

・3mm径のシリコン製フレームに開けられた孔に、厚さ8,15,35,50,200nmの膜が貼られています。(孔：Windowは４種類)

・フレームは丸いため持ちやすく、ＴＥＭのホルダーに損傷を与えることがありません。

・化学的、機械的に優れており、1000℃までの温度に耐えられます。

・幅広い温度間において動的な反応のその場観察を可能にしますので、微粒子や細胞のナノテク実験に適しています。

・１０種類セット内容